普達特科技(00650.HK)：12英寸LPCVD爐管設備通過客戶驗收，ALD設備驗證中

新時空報道：普達特科技有限公司（0650.HK）發布自願性公告，公布半導體設備業務最新進展。公司一臺12英寸LPCVD爐管設備成功通過客戶驗收，該設備應用於LP-SiN薄膜沉積工藝。此外，另一臺12英寸ALD爐管設備在客戶端處於驗證過程中，該設備應用於ALD-SiN/ALD-SiCN薄膜沉積工藝，兼容Thermal/Plasma模式。

據公告，公司先進半導體爐管設備產品線擁有Galilee-LP與Galilee-ALD兩大設備平臺，致力於服務12英寸邏輯制程、DRAM、3D NAND領域，應用覆蓋65nm~7nm先進節點的關鍵薄膜沉積工藝，可沉積SiN、Poly、TEOS等多種系列膜層材料。該類設備市場主要由海外供應商佔據，國產化率極低。公司設備可實現更高的填充深寬比、均勻性、臺階覆蓋率與更低的污染，在先進性能指標達到國際標準的同時，擁有更高的批次生產效率。

在先進應用開發方面，公司已完成開發用於14/7nm節點的Low-K ALD SiOCN爐管設備，用於滿足大規模集成電路對高性能絕緣層的需求，目前該設備仍由海外設備商壟斷。

此外，公司半導體單片清洗設備亦持續擴大客戶基礎與量產經驗。自2025年10月至今，已有五臺6至12英寸CUBE單片清洗設備成功於多家高質量客戶處通過驗收，應用於SiC/功率器件/數模混合芯片等領域，其中兩臺設備爲重復訂單。該設備針對背面清洗與蝕刻工藝，具備超薄晶圓的處理能力。

新時空聲明： 本內容爲新時空原創內容，復制、轉載或以其他任何方式使用本內容，須注明來源“新時空”或“NewTimeSpace”。新時空及授權的第三方信息提供者竭力確保數據準確可靠，但不保證數據絕對正確。本內容僅供參考，不構成任何投資建議，交易風險自擔。